作為摩爾定律的提出者，Intel也是最堅(jiān)定的摩爾定律捍衛(wèi)者，多次表示半導(dǎo)體工藝還會(huì)繼續(xù)提升下去，在現(xiàn)有4年掌握5代CPU工藝之后，Intel還啟動(dòng)了未來(lái)兩代的CPU工藝研發(fā)，目標(biāo)逼近1nm了。

Intel的5代CPU工藝分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A及Intel 18A，其中Intel 7在2021年的12代酷睿上首發(fā)了，Intel 4會(huì)在下半年的14代酷睿上首發(fā)，還會(huì)首次用上EUV光刻工藝。

Intel 3是Intel 4的改良版，Intel 20A及之后的18A則是重大升級(jí)，相當(dāng)于友商的2nm、1.8nm節(jié)點(diǎn)，將在2024年上半年及下半年量產(chǎn)，2025年將重新奪回半導(dǎo)體工藝的領(lǐng)導(dǎo)地位。

再往后呢？Intel目前的路線(xiàn)圖上沒(méi)有提到新的工藝，不過(guò)最新消息稱(chēng)Intel已經(jīng)啟動(dòng)了未來(lái)兩代工藝的定義及研發(fā)，但沒(méi)有明確的信息。

根據(jù)IMEC之前公布的芯片工藝路線(xiàn)圖來(lái)看，2nm工藝之后是14A，也就是1.4nm工藝，預(yù)計(jì)2026年問(wèn)世，再往后就是A10工藝，也就是1nm，2028年問(wèn)世。

Intel要研發(fā)的未來(lái)兩代工藝應(yīng)該也是1.4nm、1nm級(jí)別的，具體的命名還要等官方確定，畢竟時(shí)間還早。

2nm以后的工藝還要升級(jí)裝備，當(dāng)前的EUV光刻機(jī)屆時(shí)效率也不高了，ASML預(yù)計(jì)會(huì)在2026年推出High NA技術(shù)的下一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，將NA指標(biāo)從當(dāng)前的0.33提升到0.55，進(jìn)一步提升光刻分辨率。

不過(guò)下代EUV光刻機(jī)的成本也會(huì)大漲，當(dāng)前售價(jià)在1.5億美元左右，下代價(jià)格輕松超過(guò)4億美元。